Rentgenová fotoelektronová spektroskopie - nástroj moderního materiálového inženýra

Kdy? 21.1.2015 10:30
Kde? ZČU / FAV / US207 (kongresový sál)
Kategorie


Přednáší: Ing. Martin Kormunda, Ph.D.

 

Stav povrchu je základní veličinou v mnoha technických oborech od nejjednodušších jako je nanášení nátěrových hmot až po plazmově asistované depoziční procesy za nízkých tlaků. Stejně tak je důležitý stav povrchu vlastní nanesené vrstvy. Jen jeho studiem poznáme, jestli má povrch správné prvkové složení. To ale nestačí, často důležitější je správné složení chemické, tj. vazby mezi prvky. Každý přece ví, že grafit a diamant, dva různé stavy jednoho prvku - uhlíku, se vlastnostmi výrazně liší. Například pro aplikace v oblasti chemických katalyzátorů, je nutné znát právě chemické složení právě v místě, kde k reakcím dochází, tedy na povrchu. Právě k takovým analýzám je vhodná rentgenová fotoelektronová spektroskopie (XPS). XPS je jedním z nejuniverzálnějších nástrojů moderního materiálového inženýra umožňující určení prvkového a chemického složení povrchu do hloubky až 10 nm. Jak metoda XPS funguje, proč měří jen povrch, jak efektivně provádět měření a čeho se vyvarovat a zejména jak měření vyhodnocovat bude v přednášce vysvětleno a ukázáno na množství příkladů. Příklady budou z nejrůznějších oblastí od interakce plazmatu s povrchy po foto-katalyzátory.

Evropská unie, ESF, MŠMT, OP Vzdělávání pro konkurenceschopnost, ZČU

Vyhledávání

RSS kanál

Chcete mít stále aktuální přehled toho, co se chystá? Přidejte si náš kanál s přehledem chystaných událostí do Vaší RSS čtečky.